APPLICATIONS
从原水到超纯水的每一段
电子、电力、化工、医药、实验室 —— 不同行业对水质的要求不同，膜块配置与控制策略也应不同。
EDI（Electrodeionization）与反渗透及其他净化装置结合，从水中去除离子。膜块内部的离子交换树脂在直流电场作用下连续再生，无需酸碱，可连续运行也可间歇操作，产水电阻率可达 15–18.25 MΩ·cm。
对电子行业而言，超纯水是芯片制造的"血液"：制程每进步一代，电阻率、TOC、硼与微粒的控制标准都要提升一个数量级。对电力行业而言，锅炉补给水的水质直接关系到受热面的结垢与腐蚀速率。
芯片制程从 28nm 向 2nm 演进的过程中，超纯水电阻率要求从 >15 MΩ·cm 提升至 18.2 MΩ·cm 的极限值，TOC 从 5 ppb 压缩至 0.5 ppb，硼含量限制收紧至 0.05 ppt 以下，微粒子控制从 10 个/mL 提升至 1 个/mL 级别。
克莱逊 KXA 系列以中隔板全填充结构与均相离子交换树脂，提供稳定的高电阻率产水；配合抛光混床与终端过滤，形成从两级 RO 到终端用水点的完整链路。单片集成块的生产需消耗超纯水 3–5 升，水质波动会直接反映在良率上。
典型工艺：多介质过滤 → 活性炭 → 超滤 → 两级 RO → EDI → 抛光混床 → 终端过滤
锅炉补给水的硬度、电导率与硅含量，直接影响受热面的结垢与汽轮机叶片的沉积。传统混床需要酸碱再生，再生废水与化学品管理成为电厂环保与运行的双重负担。
EDI 以电化学再生替代酸碱再生，可连续制水、无需停机，配合流量、水质、压力与温度联锁保护，实现无人值守运行。克莱逊在电力行业累计业绩 40 套以上，替换进口品牌为主要方向，单项目最大产水量达 360 m³/h。
典型工艺：多介质过滤 → 活性炭 → 软化 → 一级 RO → 二级 RO → EDI → 除盐水箱
化工与石化装置的工艺用水、锅炉补给水与循环补水，通常要求大流量、连续稳定、低维护。进水水质波动大、回收率要求高，是这一类项目的共同特征。
克莱逊 KG 与 KDM 系列以紧凑结构实现 3–7 m³/h 单台产水，多台并联可覆盖超大规模系统。在青海盐湖镁业项目中，6 套 EDI 系统单套产水 200 t/h、总产水能力 1200 t/h，用于盐湖提锂工艺超纯水制备，实现进口品牌直接替换。
典型工艺：预处理 → 超滤 → 两级 RO → EDI → 工艺用水点 / 除盐水箱
制药纯化水系统需要周期性热水消毒以控制微生物负荷，这对膜块的耐温性能与密封结构提出更高要求。常规膜块在高温消毒后容易出现膜片变形、密封失效与产水水质下降。
KXGW 高温款支持 85±5℃ 热水消毒、消毒次数 ≥150 次。消毒时持续 1 小时，流量调整至正常运行的 30–40% 并断开 EDI 电源；消毒结束后待温度降至 45℃ 以下，再恢复至正常进水压力与流量。
典型工艺：多介质过滤 → 活性炭 → 软化 → 两级 RO → EDI → 纯化水储罐 → 分配环路（85℃ 消毒）
实验室用水量小但对水质要求高：HPLC、ICP-MS、细胞培养与分子生物学实验，对电阻率、TOC 与微生物都有明确限值。台面式超纯水机受空间限制，需要紧凑的 EDI 膜块。
KXA 小型系列标准产水 50–300 L/h，工作电流 0–2 A、工作电压 0–220 V，3 分接口便于与小型 RO 系统对接。体积紧凑、安装槽结构支持快速固定与更换，适合台面式与柜式系统集成。
典型工艺：预处理 → 小型 RO → 小型 EDI → 抛光树脂 → 终端超滤
连铸冷却、轧钢除鳞与表面处理用水，要求稳定的低电导率与低硬度。鞍钢、包钢、天津钢铁、安阳钢铁等项目已稳定运行。
硅片清洗与电池片制绒工序对金属离子极为敏感，EDI 与抛光混床组合可稳定供给 18 MΩ·cm 级超纯水。
配料用水与瓶装水生产要求低电导率与卫生级管路，KXGW 高温款支持周期性热水消毒，满足卫生管理要求。
光大环境、深能环保等多个垃圾发电项目的锅炉补给水系统采用 KXA / KDM 系列替换进口膜块。